Desenvolvimento de filme fino de a-Si:H por pulverização catódica para aplicações fotovoltaicas.
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Data
2011
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Editor
Programa de Pós-Graduação em Engenharia de Materiais. Rede Temática em Engenharia de Materiais, Pró-Reitoria de Pesquisa e Pós-Graduação, Universidade Federal de Ouro Preto.
Resumo
Filmes finos de silício amorfo hidrogenado (a-Si:H) foram desenvolvidos para aplicações fotovoltaicas. Esses filmes são atualmente muito utilizados em células solares HSJ como camada absorvedora devido às suas boas propriedades ópticas e elétricas, associado a um band gap razoavelmente baixo e um reduzido custo de produção. Os filmes foram sintetizados por pulverização catódica (sputtering d.c.). As técnicas de caracterização utilizadas foram perfilômetria, Raman, IR e UV-vis para sua caracterização estrutural, química e óptica, respectivamente. Para a avaliação dos parâmetros físicos, adotaram-se como variáveis dependentes o coeficiente da absorção óptica, o teor de fase amorfa e a concentração de hidrogênio no material formado. As variáveis independentes utilizadas neste estudo são: pressão e temperatura de deposição. Os filmes finos amorfos foram auferidos com concentrações de hidrogênio superiores a 10% e band gap na faixa de 1,9eV.
Descrição
Palavras-chave
Filmes - sílício, Pulverização catódica, Fotovoltaicas, Engenharia de materiais
Citação
SANTANA, R. J. Desenvolvimento de filme fino de a-Si:H por pulverização catódica para aplicações fotovoltaicas. 2011. 86 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia de Materiais) – Universidade Federal de Ouro Preto, Ouro Preto, 2011.