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| Data do documento | Título | Autor(es) |
|---|---|---|
| 2006 | SiO2 single layer for reduction of the standing wave effects in the interference lithography of deep photoresist structures on Si. | Carvalho, Edson José de; Alves, Marco Antônio Robert; Braga, Edmundo da Silva; Cescato, Lucila Helena Deliesposte |
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